脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD), 是一种利用激光对物体进行轰击, 然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成, 整个系统需要超高真空; 由于各个辅助腔体, 体积小, 因此使用HiCube 80真空泵组非常实用.
该PLD系统用到德国Pfeiffer 真空泵数量:
1. HiCube 80*7
2. Hipace 300*2
该脉冲激光沉积系统基本规格:
1.系统功能:主要用于制备有机自旋阀器件,还可用于制备有机发光二极管、太阳能电池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.样品尺寸:直径2’’
4.基板加热温度:1000度
5.镀膜方式:Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式
我公司是德国普发授权代理商。伯东真空主营产品德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空镀膜机,真空系统以及HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机. CTI 低温泵和美国KRI 离子源.Gamma离子泵。离子刻蚀机等
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