光学镀膜(optics coating),在现代生产被广泛应用, 玻璃镀膜、镜片镀膜、显微镜镜片镀膜、装饰灯罩镀膜都是必不可少的生产工艺, 但是在真空镀膜中会出现膜层不均匀, 或是产品膜层脱落等现象。所以针对此类问题, 美国KRI（Kaufman & Robinson, Inc）研发了Ion Source离子源，从而解决了此类技术问题。我公司为美国KRI在中国地区的指定代理商，并负责其产品的销售及相关技术支持.

KRI离子枪在光学镀膜中主要起到了预清洁及辅助镀膜的作用，如下的实际案例:厦门某光学镀膜企业，该企业使用日本Shincron真空镀膜机, 如下图所示:

加装KRI 离子源起到预清洁作用，由于膜层表面很光滑，在镀膜时会产生膜层脱落现象，预清洁就是将膜层表面用大的离子如Ar打击表面，使得制程物能有效的吸附在表面上。

使用专业测膜记号笔，可以明显看出加装KRI Ion source前后有很大的不同，当然在镀膜中希望的效果肯定是加装后的。

由于客户腔体比较​​大，大约2 m3左右，所以我们使用的型号是EH 4200，功率比较大的KRI离子源。在预清洁后还会开启进行辅助镀膜，具体效果需要在显微镜下观测，膜层厚度均匀性及附着牢固度都明显提高。

工作示意图如上，KRI离子枪覆盖面KRI Ion Source 广泛应用在Optical coating 、Semiconductor、Display、Data Storage、R&D、Precision coating and etching等领域